テフロンコーティング装置

技術情報

テフロンコーティング装置とは

省スペース、低公害での、均一・超薄膜な　PTFEコーティングが可能な装置。マグネトロン方式で成膜するテフロン薄膜。
直流マグネトロン方式で成膜する当装置はレインボーコーティングの、他に使用する金属ターゲット（チタン、タンタル、タングステン、シルバーなど）と導入ガスにより金属、金属窒化物、金属酸化物の薄膜がコーティング可能です。

テフロンコーティング装置の用途

• 低摩擦係数
• 離型性向上
• 化学的、温度的に安定

テフロンコーティング装置の加工原理

• 作動ガスを真空チャンバー内に導入し、高周波電場及び磁場の作用によってガスをイオン化し、プラズマを発生します。
• 生成したガスのイオンをターゲットに衝突させます。
• 表面から飛び出したターゲットの原子を基板上に付着させ薄膜を形成します。

テフロンコーティング装置販売

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テフロン薄膜の濡れ性と応用例

比較する限りテフロン薄膜の濡れ性は通常のテフロンより優れている。
図上段はガラス基板にテフロンをコートし水滴を滴下したもの図下段は通常のテフロン板に水滴を滴下したものテフロン薄膜による表面改質は化学的、温度的に安定であり、摩擦係数も低く応用範囲が広い。
ダイヤモンドライクカーボン、窒化チタンとの組合わせも可能である。
ポリマー材料に対する離型性が優れており、光金型の離型剤としての役割を果たす。

テフロンフローティング装置の仕様

電源周波数	13.56MHz
有効コーティング容積	Φ600×高さ450mm
電源	400～5000V
最大消費電力	10kW

カタログダウンロード：テフロンコーティング装置

テフロンコーティングカタログPDF （228KB）

サポート：テフロンコーティング装置

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